입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
설치가 간편한 초소형 경량의 Parsum IPP-70-S 프로브는 50µm ~ 6000µm 크기의 고체 입자에 대한 크기 및 속도 측정을 실시간으로 확인할 수 있습니다. 방진과 방수 기능을 갖추고 시료 채취 또는 보정이 필요 없는 Parsum IPP-70-SE는 연마 입자, 기름기 있는 입자, 끈적한 입자에 대해서도 높고 변동적인 고체 부하에서 연속 공정 모니터링을 제공합니다.
IPP 70-S는 ATEX 요건이 없는 산업분야에서 범용적으로 사용되는 입자 프로브의 표준 모델입니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 프로세스 내에서 입자 크기 분포(Q0, Q3 등) 및 분포 속성(x10, x50, x90 등)을 직접 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어난 스테인레스 스틸 구조에 사파이어 윈도우가 장착되어 있어 광학적인 마모를 방지합니다.
크기, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로, IPP 70-S와 함께 프로세스를 적응시키기 위한 모든 액세서리를 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 구동 액세서리를 사용하면 측정용 부피와 측정 광학이 오염되지 않고 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되며, 점성이 높은 입자가 있는 프로세스에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고전달 공정과 같은 입자로 인한 높은 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 사용자에게 프로브의 신뢰성 및 운영 상태에 대한 정보를 제공합니다.
완전한 측정 시스템은 IPP 70-S와 프로세스 적응용 액세서리, 입자 탐색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 장착된 측정용 PC로 구성됩니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 이용 가능합니다.
Parsum IPP 70-S 프로브는 공간 여과 속도 측정법의 잘 정립된 측정 원리를 이용합니다. 보정 또는 시료 채취가 필요하지 않으며 입자가 구형이라는 가정도 필요 없습니다. 공간 여과 속도 측정법은 입도 분포를 전개하기 위한 개별 입자에 대한 데이터를 수집하는 숫자 기반의 현 길이 분석 방법입니다.
입자가 레이저 광선을 관통하여 낙하하면서 그림자를 만들기 때문에 광섬유로 구성된 선형 검출기 어레이를 향하는 광의 흐름을 중단시킵니다. 공간 여과 검출기의 연속선 상에 이웃하는 섬유 요소의 순차적 중단으로부터 입자 속도가 계산됩니다.
입도는 입자가 하나의 광섬유를 차단하고 있는 기간의 척도인 2차 신호, 즉 펄스 신호를 이용하여 측정됩니다.
다량의 입자를 측정함으로써 통계적으로 유효한 결과치를 생성하고, 이 결과치로부터 사용자의 필요에 따라 다양한 크기 파라미터와 부피 기반의 분포가 도출됩니다.
Parsum IPP 70-S는 라인 또는 용기 내에 직접 설치됩니다. 시료 조제가 필요하지는 않지만 유동 채널과 광학기구에 점착성 물질이 없도록 유지하고 높은 고체 부하와 온도에서 측정하기 위해 내부의 압축된 공기를 급기해서 응집체를 확산시킬 수 있습니다.
정보는 측정 구역으로부터 장비의 견고함을 증가시키는 광섬유 케이블을 통해 프로브의 전자장비 하우징에 전송됩니다. 그런 다음 이 데이터가 공정 모니터링과 제어를 위해 제어실로 전송되거나 기존의 제어 시스템으로 전송될 수 있습니다. 장비가 부피 감지 시에 농도의 척도를 제공하기 때문에 적절한 연관성을 이용하면 유동/처리량의 변화를 추정할 수 있습니다.
| IPP 70-S 인라인 입자 측정 프로브 |
|
| 입자 크기 측정 범위: | 50 µm … 6000 µm |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 속도 측정 범위: | 0,01 m/s … 50 m/s |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 체적 농도: | 1mm 미만 입자의 경우 최대 약 12 vol.%,
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.% |
| 측정 속도: | 최대 초당 20,000 입자 |
| 제품: | 파우더, 펠렛, 과립, 비말 등 |
| 공정 온도/압력/습도: | –20°C to +100°C / <4 bar / 35% - 80% 비응축 |
| 재질: | 스테인레스 스틸(L316), 사파이어, 에폭시 수지 |
| 프로브 튜브 크기 (L/D): | 280 x 25 mm |
| 전자기기 하우징 크기 (W/H/D): | 120 x 90 x 60 mm |
| 전자기기 하우징 온도: | -10…60°C |
| 하우징 보호 등급: | IP65 |
| 광원: | 670nm Laser (레이저 클래스 1) |
| 전력 소비: | 2W (평균) |
| 인터페이스: | 입자 분포 및 속성을 ASCII 파일로 (Excel 호환) 제공,
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC |
| Process interface |
|
| D24 disperser | 고부하 / 고미립자용 - 입자 크기 최대 2000 µm까지, 간극 3.8 mm |
| D12 disperser | D24와 유사하지만 2000 µm보다 큰 입자에 대해서도 처리 가능하며, 간극은 7.5 mm |
| SZ11, SZ20 cleaning cells | 입자 유량을 희석하지 않고도 프로브 옵틱을 청소하기 위한 저부하용 |
| Compressed-air unit | 분산기 또는 클리닝 셀을 사용할 때 프로브에 압축공기 공급 |
| VS28 anti-wear guard | 하드크롬 코팅으로 강화된 튜브 슬리브는 68-72 록웰의 경도를 가지고 있음 |
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
Parsum IPP 70-SE
설치가 간편한 초소형 경량의 Parsum IPP-70-SE는 최대 6000µm 크기의 고체 입자에 대한 실시간의 크기와 속도 측정을 행하는 본질적으로 안전한 프로브입니다. 방진과 방수 기능을 갖추고 시료 채취 또는 보정이 필요 없는 Parsum IPP-70-SE는 가스 또는 분진 구역의 유해 환경에서 높은 고체 부하와 변동 고체 부하로 연속 공정 모니터링합니다.
IPP 70-SE는 ATEX 인증이 필요한 산업분야에서 범용적으로 사용되는 입자 프로브의 표준 모델입니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 프로세스 내에서 입자 크기 분포(Q0, Q3 등) 및 분포 속성(x10, x50, x90 등)을 직접 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어난 스테인레스 스틸 구조에 사파이어 윈도우가 장착되어 있어 광학적인 마모를 방지합니다.
크기, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로, IPP 70-S와 함께 프로세스를 적응시키기 위한 모든 액세서리를 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 구동 액세서리를 사용하면 측정용 부피와 측정 광학이 오염되지 않고 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되며, 점성이 높은 입자가 있는 프로세스에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고전달 공정과 같은 입자로 인한 높은 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 사용자에게 프로브의 신뢰성 및 운영 상태에 대한 정보를 제공합니다.
완전한 측정 시스템은 IPP 70-S와 프로세스 적응용 액세서리, 입자 탐색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 장착된 측정용 PC로 구성됩니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 이용 가능합니다.
- Parsum IPP 70-SE는 설치가 간편하고 경량이기 때문에 새로운 처리 공장과 기존의 처리 공장에 빠르게 통합될 수 있습니다.
- 최대 50m/s의 이동 속도, 50 - 6000µm의 크기로 입자에 대해 넓은 동적 범위를 갖습니다.
- 높은 고체 부하, 심지어 불규칙하게 이동하는 입자에 대한 재현 가능한 측정은 유동층 모니터링에 이상적입니다.
- 맞춤 설정 가능한 종합 소프트웨어를 통한 실시간의 측정과 피드백
- 시료 채취 또는 보정이 필요하지 않습니다.
- 다양한 부속 장비를 이용하면 연마 입자, 기름기 있는 입자, 끈적한 입자, 점착성 있는 입자에 대한 응용분야도 가능합니다.
- ATEX 100 인증
Parsum IPP 70-SE 프로브는 잘 정립된 공간 여과 속도 측정법의 측정 원리를 이용합니다. 보정 또는 시료 채취가 필요하지 않으며 입자가 구형이라는 가정도 필요 없습니다. 프로브는 대응하는 전자 장비가 구역 1과 21에서 사용하도록 지정되어 케이스 작업이 되면 구역 0, 1, 2, 20, 21, 22에서 사용할 수 있습니다.
공간 여과 속도 측정법은 입도 분포를 전개하기 위한 개별 입자에 대한 데이터를 수집하는 숫자 기반의 현 길이 분석 방법입니다.
입자가 레이저 광선을 관통하여 낙하하면서 그림자를 만들기 때문에 광섬유로 구성된 선형 검출기 어레이를 향하는 광의 흐름을 중단시킵니다. 공간 여과 검출기의 연속선 상에 이웃하는 섬유 요소의 순차적 중단으로부터 입자 속도가 계산됩니다. 입도는 입자가 하나의 광섬유를 차단하고 있는 기간의 척도인 2차 신호, 즉 펄스 신호를 이용하여 측정됩니다.
다량의 입자를 측정함으로써 통계적으로 유효한 결과치를 생성하고, 이 결과치로부터 사용자의 필요에 따라 다양한 크기 파라미터와 부피 기반의 분포가 도출됩니다.
Parsum IPP 70-SE는 라인 또는 용기 내에 직접 설치됩니다. 시료 조제가 필요하진 않지만 유동 채널과 광학기구에서 점착성 물질이 깨끗할 수 있도록 유지하고 높은 고체 부하와 온도에서 측정하기 위하여 내부의 압축된 공기를 급기해서 응집체를 확산시킬 수 있습니다.
정보는 측정 구역으로부터 장비의 견고함을 증가시키는 광섬유 케이블을 통해 프로브의 전자장비 하우징에 전송됩니다. 그런 다음 이 데이터가 공정 모니터링과 제어를 위해 제어실로 전송되거나 기존의 제어 시스템으로 전송될 수 있습니다. 장비가 부피 감지 시에 농도의 척도를 제공하기 때문에 적절한 연관성을 이용하면 유동/처리량의 변화를 추정할 수 있습니다.
| IPP 70-S 인라인 입자 측정 프로브 |
|
| 입자 크기 측정 범위: | 50 µm … 6000 µm |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 속도 측정 범위: | 0,01 m/s … 50 m/s |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 체적 농도: | 1mm 미만 입자의 경우 최대 약 12 vol.%,
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.% |
| 측정 속도: | 최대 초당 20,000 입자 |
| 제품: | 파우더, 펠렛, 과립, 비말 등 |
| 공정 온도/압력/습도: | –20°C to +100°C / <4 bar / 35% - 80% 비응축 |
| 재질: | 스테인레스 스틸(L316), 사파이어, 에폭시 수지 |
| 프로브 튜브 크기 (L/D): | 280 x 25 mm |
| 전자기기 하우징 크기 (W/H/D): | 120 x 90 x 60 mm |
| 전자기기 하우징 온도: | -10…60°C |
| 하우징 보호 등급: | IP65 |
| 광원: | 670nm Laser (레이저 클래스 1) |
| 전력 소비: | 2W (평균) |
| 인터페이스: | 입자 분포 및 속성을 ASCII 파일로 (Excel 호환) 제공,
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC |
| Process interface |
|
| D24 disperser | 고부하 / 고미립자용 - 입자 크기 최대 2000 µm까지, 간극 3.8 mm |
| D12 disperser | D24와 유사하지만 2000 µm보다 큰 입자에 대해서도 처리 가능하며, 간극은 7.5 mm |
| SZ11, SZ20 cleaning cells | 입자 유량을 희석하지 않고도 프로브 옵틱을 청소하기 위한 저부하용 |
| Compressed-air unit | 분산기 또는 클리닝 셀을 사용할 때 프로브에 압축공기 공급 |
| VS28 anti-wear guard | 하드크롬 코팅으로 강화된 튜브 슬리브는 68-72 록웰의 경도를 가지고 있음 |
| ATEX certificate | IBExU02ATEX1009 |
Probe identification  | II 1/2G Ex ia op is IIB T4 Ga/Gb
II 1/2D Ex ia op is IIIC T125°C Da/Db |
Barrier-box identification  | II (1)G [Ex ia Ga] IIB
II (1)D [Ex ia Da] IIIC |
Parsum IPP 75-S
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
IPP 75-S는 화학, 식품 및 건설 자재 등 분야에서 ATEX 요구 사항이 없는 대형 및 깊은 프로세스 컨테이너 및 접근하기 어려운 지역의 모든 공정에 대한 특수 프로브입니다. 유동층, 그래뉼레이션, 응집, 코팅, 스프레이 건조, 체질, 연삭 및 운반에 적합합니다.
IPP 75-S는 고층 교반기와 같은 대형 및 깊은 프로세스 영역에서 사용하기 위한 특수 프로브입니다. 이를 위해, 프로브는 IPP 80-P 제약용 프로브에서도 사용되는 새로운 개념을 특징으로 합니다. 이로 인해 필요한 거의 모 길이의 프로브 버전을 제작할 수 있습니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 입자 크기 분포 (예: Q0, Q3)와 함께 분포 속성 (x10, x50, x90 등)을 직접 프로세스 내에서 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어나며 광학부의 마모를 방지하기 위해 사파이어 윈도우가 있는 강력한 스테인레스 스틸 구조로 이루어져 있습니다.
치수, 측정 범위 및 액세서리는 모든 다른 프로브 모델과 호환되므로 프로세스 적응용 액세서리를 IPP 75-S와 함께 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 기반 액세서리는 측정 부피와 측정 광학부를 오염으로부터 계속해서 유지하면서 프로세스 및 입자 특성에 최적화를 보장합니다. 따라서, 프로브는 습기가 많고 끈적이는 입자를 사용하는 프로세스에도 적합합니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고층 프로세스와 같은 높은 입자 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징 내의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 프로브의 안정적인 작동 및 작동 상태에 대한 정보를 사용자에게 제공합니다.
프로세스 액세서리와 함께 사용하기 위한 IPP 75-S 측정 시스템과 입자 검색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 포함된 측정용 PC가 완전한 측정 시스템을 구성합니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 사용할 수 있습니다.
| IPP 75-S 인라인 입자 측정 프로브 |
|
| 입자 크기 측정 범위: | 50 µm … 6000 µm |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 속도 측정 범위: | 0,01 m/s … 50 m/s |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 체적 농도: | 1mm 미만 입자의 경우 최대 약 12 vol.%,
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.% |
| 측정 속도: | 최대 초당 20,000 입자 |
| 제품: | 파우더, 펠렛, 과립, 비말 등 |
| 공정 온도/압력/습도: | –20°C to +100°C / <4 bar / 35% - 80% 비응축 |
| 재질: | 스테인레스 스틸(L316), 사파이어, 에폭시 수지 |
| 프로브 튜브 크기 (L/D): | 380 x 25 mm |
| 전자기기 하우징 크기 (W/H/D): | 130 x 120 x 65 mm |
| 전자기기 하우징 온도: | -10…60°C |
| 하우징 보호 등급: | IP65 |
| 광원: | 670nm Laser (레이저 클래스 1) |
| 전력 소비: | 2W (평균) |
| 인터페이스: | 입자 분포 및 속성을 ASCII 파일로 (Excel 호환) 제공,
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC |
| Process interface |
|
| D24 disperser | 고부하 / 고미립자용 - 입자 크기 최대 2000 µm까지, 간극 3.8 mm |
| D12 disperser | D24와 유사하지만 2000 µm보다 큰 입자에 대해서도 처리 가능하며, 간극은 7.5 mm |
| SZ11, SZ20 cleaning cells | 입자 유량을 희석하지 않고도 프로브 옵틱을 청소하기 위한 저부하용 |
| Compressed-air unit | 분산기 또는 클리닝 셀을 사용할 때 프로브에 압축공기 공급 |
| VS28 anti-wear guard | 하드크롬 코팅으로 강화된 튜브 슬리브는 68-72 록웰의 경도를 가지고 있음 |
Parsum IPP 80-P
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
IPP 80-P는 제약 분야의 공정에서 사용하기 위해 청결성, 세정성 및 위생 요구 사항이 높은 분야에서 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.
이는 Quality by Design(QbD) 원칙에 기반한 현대적인 생산 공정을 구현하는 데 유용한 PAT 도구입니다. ATEX 요구 사항을 충족하는 프로세스에서 안전하게 사용하기 위해 내폭적 안전 프로브로 설계되었습니다.
IPP 80-P는 제안된 산업 현장에서 제품의 안전성과 청결성을 유지하기 위해 중요한 도구로 사용됩니다. 이는 의약품 및 식품 생산 및 개발의 GMP 규제 영역에서 모든 ATEX 요구 사항을 갖춘 프로세스에서 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.
IPP 80-P는 레이저 조명 및 수신 광학의 하드웨어 기반, 따라서 연속적인 모니터링과 측정 소프트웨어에서의 자동 신호를 제공하여 언제나 안정적인 운영을 보장합니다. 이는 공정 내부에서 사용하기 전과 측정 작업 중 모두 적용됩니다.
측정 PC와 함께 사용하면, ATEX 지역 0/20 (가스/먼지)에서 직접적으로 입자 크기 분포 (예: Q0, Q3) 및 분포 속성 (x10, x50, x90 등)을 결정할 수 있습니다.
이 제품은 내구성이 뛰어나고, 사파이어 윈도우로 광학을 마모로부터 보호하며, 프로브 하우징도 스테인리스 스틸로 제작되어 있습니다. 치수, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로 ATEX 지역에서 IPP 80-P와 모든 공정 적응 액세서리를 함께 사용할 수 있습니다.
압축 공기 구동 액세서리 (분산기 등)는 측정 부피 및 측정 광학이 영구적으로 오염되지 않도록 보장하면서, 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되도록합니다. 따라서 프로브는 습기가 많고 끈적 끈적한 입자가 있는 공정에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동화 침대와 같은 입자 이동이 불규칙한 공정이나 고체 프로세스와 같은 높은 입자 부하를 가진 공정에서도 측정이 가능합니다.
| IPP 75-S 인라인 입자 측정 프로브 |
|
| 입자 크기 측정 범위: | 50 µm … 6000 µm |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 속도 측정 범위: | 0,01 m/s … 50 m/s |
| 측정 원리: | 공간 여과 속도 측정법 |
| 입자 체적 농도: | 1mm 미만 입자의 경우 최대 약 12 vol.%,
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.% |
| 측정 속도: | 최대 초당 20,000 입자 |
| 제품: | 파우더, 펠렛, 과립, 비말 등 |
| 공정 온도/압력/습도: | –20°C to +100°C / <4 bar / 35% - 80% 비응축 |
| 재질: | 스테인레스 스틸(L316), 사파이어, 에폭시 수지 |
| 프로브 튜브 크기 (L/D): | 280 x 25 mm |
| 전자기기 하우징 크기 (W/H/D): | 130 x 90 x 60 mm |
| 전자기기 하우징 온도: | -10…60°C |
| 하우징 보호 등급: | IP65 |
| 광원: | 670nm Laser (레이저 클래스 1) |
| 전력 소비: | 2W (평균) |
| 인터페이스: | 입자 분포 및 속성을 ASCII 파일로 (Excel 호환) 제공,
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC |
| ATEX certificate | IBExU14ATEX1247 |
Probe identification  | II 1/2G Ex ia op is IIB T4 Ga/Gb
II 1/2D Ex ia op is IIIC T125°C Da/Db |
Barrier-box identification  | II (1)G [Ex ia Ga] IIB
II (1)D [Ex ia Da] IIIC |
| Process interface |
|
| D24 disperser | 고부하 / 고미립자용 - 입자 크기 최대 2000 µm까지, 간극 3.8 mm |
| D12 disperser | D24와 유사하지만 2000 µm보다 큰 입자에 대해서도 처리 가능하며, 간극은 7.5 mm |
| SZ11, SZ20 cleaning cells | 입자 유량을 희석하지 않고도 프로브 옵틱을 청소하기 위한 저부하용 |
| Compressed-air unit | 분산기 또는 클리닝 셀을 사용할 때 프로브에 압축공기 공급 |
| VS28 anti-wear guard | 하드크롬 코팅으로 강화된 튜브 슬리브는 68-72 록웰의 경도를 가지고 있음 |
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다.
입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
An overview of particle probes
1.4301/304; 85×65 mm
Parsum IPP 70-S
설치가 간편한 초소형 경량의 Parsum IPP-70-S 프로브는 50µm ~ 6000µm 크기의 고체 입자에 대한 크기 및 속도 측정을 실시간으로 확인할 수 있습니다. 방진과 방수 기능을 갖추고 시료 채취 또는 보정이 필요 없는 Parsum IPP-70-SE는 연마 입자, 기름기 있는 입자, 끈적한 입자에 대해서도 높고 변동적인 고체 부하에서 연속 공정 모니터링을 제공합니다.
IPP 70-S는 ATEX 요건이 없는 산업분야에서 범용적으로 사용되는 입자 프로브의 표준 모델입니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 프로세스 내에서 입자 크기 분포(Q0, Q3 등) 및 분포 속성(x10, x50, x90 등)을 직접 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어난 스테인레스 스틸 구조에 사파이어 윈도우가 장착되어 있어 광학적인 마모를 방지합니다.
크기, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로, IPP 70-S와 함께 프로세스를 적응시키기 위한 모든 액세서리를 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 구동 액세서리를 사용하면 측정용 부피와 측정 광학이 오염되지 않고 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되며, 점성이 높은 입자가 있는 프로세스에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고전달 공정과 같은 입자로 인한 높은 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 사용자에게 프로브의 신뢰성 및 운영 상태에 대한 정보를 제공합니다.
완전한 측정 시스템은 IPP 70-S와 프로세스 적응용 액세서리, 입자 탐색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 장착된 측정용 PC로 구성됩니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 이용 가능합니다.
Parsum IPP 70-S 프로브는 공간 여과 속도 측정법의 잘 정립된 측정 원리를 이용합니다. 보정 또는 시료 채취가 필요하지 않으며 입자가 구형이라는 가정도 필요 없습니다. 공간 여과 속도 측정법은 입도 분포를 전개하기 위한 개별 입자에 대한 데이터를 수집하는 숫자 기반의 현 길이 분석 방법입니다.
입자가 레이저 광선을 관통하여 낙하하면서 그림자를 만들기 때문에 광섬유로 구성된 선형 검출기 어레이를 향하는 광의 흐름을 중단시킵니다. 공간 여과 검출기의 연속선 상에 이웃하는 섬유 요소의 순차적 중단으로부터 입자 속도가 계산됩니다.
입도는 입자가 하나의 광섬유를 차단하고 있는 기간의 척도인 2차 신호, 즉 펄스 신호를 이용하여 측정됩니다.
다량의 입자를 측정함으로써 통계적으로 유효한 결과치를 생성하고, 이 결과치로부터 사용자의 필요에 따라 다양한 크기 파라미터와 부피 기반의 분포가 도출됩니다.
Parsum IPP 70-S는 라인 또는 용기 내에 직접 설치됩니다. 시료 조제가 필요하지는 않지만 유동 채널과 광학기구에 점착성 물질이 없도록 유지하고 높은 고체 부하와 온도에서 측정하기 위해 내부의 압축된 공기를 급기해서 응집체를 확산시킬 수 있습니다.
정보는 측정 구역으로부터 장비의 견고함을 증가시키는 광섬유 케이블을 통해 프로브의 전자장비 하우징에 전송됩니다. 그런 다음 이 데이터가 공정 모니터링과 제어를 위해 제어실로 전송되거나 기존의 제어 시스템으로 전송될 수 있습니다. 장비가 부피 감지 시에 농도의 척도를 제공하기 때문에 적절한 연관성을 이용하면 유동/처리량의 변화를 추정할 수 있습니다.
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.%
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC
Accessories
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
Parsum IPP 70-SE
설치가 간편한 초소형 경량의 Parsum IPP-70-SE는 최대 6000µm 크기의 고체 입자에 대한 실시간의 크기와 속도 측정을 행하는 본질적으로 안전한 프로브입니다. 방진과 방수 기능을 갖추고 시료 채취 또는 보정이 필요 없는 Parsum IPP-70-SE는 가스 또는 분진 구역의 유해 환경에서 높은 고체 부하와 변동 고체 부하로 연속 공정 모니터링합니다.
IPP 70-SE는 ATEX 인증이 필요한 산업분야에서 범용적으로 사용되는 입자 프로브의 표준 모델입니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 프로세스 내에서 입자 크기 분포(Q0, Q3 등) 및 분포 속성(x10, x50, x90 등)을 직접 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어난 스테인레스 스틸 구조에 사파이어 윈도우가 장착되어 있어 광학적인 마모를 방지합니다.
크기, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로, IPP 70-S와 함께 프로세스를 적응시키기 위한 모든 액세서리를 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 구동 액세서리를 사용하면 측정용 부피와 측정 광학이 오염되지 않고 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되며, 점성이 높은 입자가 있는 프로세스에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고전달 공정과 같은 입자로 인한 높은 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 사용자에게 프로브의 신뢰성 및 운영 상태에 대한 정보를 제공합니다.
완전한 측정 시스템은 IPP 70-S와 프로세스 적응용 액세서리, 입자 탐색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 장착된 측정용 PC로 구성됩니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 이용 가능합니다.
Parsum IPP 70-SE 프로브는 잘 정립된 공간 여과 속도 측정법의 측정 원리를 이용합니다. 보정 또는 시료 채취가 필요하지 않으며 입자가 구형이라는 가정도 필요 없습니다. 프로브는 대응하는 전자 장비가 구역 1과 21에서 사용하도록 지정되어 케이스 작업이 되면 구역 0, 1, 2, 20, 21, 22에서 사용할 수 있습니다.
공간 여과 속도 측정법은 입도 분포를 전개하기 위한 개별 입자에 대한 데이터를 수집하는 숫자 기반의 현 길이 분석 방법입니다.
입자가 레이저 광선을 관통하여 낙하하면서 그림자를 만들기 때문에 광섬유로 구성된 선형 검출기 어레이를 향하는 광의 흐름을 중단시킵니다. 공간 여과 검출기의 연속선 상에 이웃하는 섬유 요소의 순차적 중단으로부터 입자 속도가 계산됩니다. 입도는 입자가 하나의 광섬유를 차단하고 있는 기간의 척도인 2차 신호, 즉 펄스 신호를 이용하여 측정됩니다.
다량의 입자를 측정함으로써 통계적으로 유효한 결과치를 생성하고, 이 결과치로부터 사용자의 필요에 따라 다양한 크기 파라미터와 부피 기반의 분포가 도출됩니다.
Parsum IPP 70-SE는 라인 또는 용기 내에 직접 설치됩니다. 시료 조제가 필요하진 않지만 유동 채널과 광학기구에서 점착성 물질이 깨끗할 수 있도록 유지하고 높은 고체 부하와 온도에서 측정하기 위하여 내부의 압축된 공기를 급기해서 응집체를 확산시킬 수 있습니다.
정보는 측정 구역으로부터 장비의 견고함을 증가시키는 광섬유 케이블을 통해 프로브의 전자장비 하우징에 전송됩니다. 그런 다음 이 데이터가 공정 모니터링과 제어를 위해 제어실로 전송되거나 기존의 제어 시스템으로 전송될 수 있습니다. 장비가 부피 감지 시에 농도의 척도를 제공하기 때문에 적절한 연관성을 이용하면 유동/처리량의 변화를 추정할 수 있습니다.
Technical details
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.%
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC
Accessories
II 1/2D Ex ia op is IIIC T125°C Da/Db
II (1)D [Ex ia Da] IIIC
Parsum IPP 75-S
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
IPP 75-S는 화학, 식품 및 건설 자재 등 분야에서 ATEX 요구 사항이 없는 대형 및 깊은 프로세스 컨테이너 및 접근하기 어려운 지역의 모든 공정에 대한 특수 프로브입니다. 유동층, 그래뉼레이션, 응집, 코팅, 스프레이 건조, 체질, 연삭 및 운반에 적합합니다.
IPP 75-S는 고층 교반기와 같은 대형 및 깊은 프로세스 영역에서 사용하기 위한 특수 프로브입니다. 이를 위해, 프로브는 IPP 80-P 제약용 프로브에서도 사용되는 새로운 개념을 특징으로 합니다. 이로 인해 필요한 거의 모 길이의 프로브 버전을 제작할 수 있습니다.
측정용 PC와 함께 사용하면 입자 크기 분포 (예: Q0, Q3)와 함께 분포 속성 (x10, x50, x90 등)을 직접 프로세스 내에서 확인할 수 있습니다.
내구성이 뛰어나며 광학부의 마모를 방지하기 위해 사파이어 윈도우가 있는 강력한 스테인레스 스틸 구조로 이루어져 있습니다.
치수, 측정 범위 및 액세서리는 모든 다른 프로브 모델과 호환되므로 프로세스 적응용 액세서리를 IPP 75-S와 함께 사용할 수 있습니다.
분산기와 같은 압축 공기 기반 액세서리는 측정 부피와 측정 광학부를 오염으로부터 계속해서 유지하면서 프로세스 및 입자 특성에 최적화를 보장합니다. 따라서, 프로브는 습기가 많고 끈적이는 입자를 사용하는 프로세스에도 적합합니다. 분산기를 사용하면 유동층과 같은 입자 이동이 불규칙한 프로세스나 고층 프로세스와 같은 높은 입자 부하가 있는 프로세스에서도 측정이 가능합니다.
전자 하우징 내의 LED와 측정 소프트웨어의 신호는 프로브의 안정적인 작동 및 작동 상태에 대한 정보를 사용자에게 제공합니다.
프로세스 액세서리와 함께 사용하기 위한 IPP 75-S 측정 시스템과 입자 검색 및 모든 분포 계산을 위한 측정 프로그램이 포함된 측정용 PC가 완전한 측정 시스템을 구성합니다. 측정 결과는 선택적 인터페이스를 통해 상위 제어 시스템에서 사용할 수 있습니다.
Technical details
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.%
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC
Accessories
Parsum IPP 80-P
PARSUM 제품군은 레이 산란원리를 이용하여 고체입자나 액적입자의 크기 분포를 측정할 수 있는 장비입니다. 입자크기 측정이 중요한 다양한 산업분야에서 활용되며, PARSUM 제품군은 이에 적합한 다양한 모델을 제공합니다.
IPP 80-P는 제약 분야의 공정에서 사용하기 위해 청결성, 세정성 및 위생 요구 사항이 높은 분야에서 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.
이는 Quality by Design(QbD) 원칙에 기반한 현대적인 생산 공정을 구현하는 데 유용한 PAT 도구입니다. ATEX 요구 사항을 충족하는 프로세스에서 안전하게 사용하기 위해 내폭적 안전 프로브로 설계되었습니다.
IPP 80-P는 제안된 산업 현장에서 제품의 안전성과 청결성을 유지하기 위해 중요한 도구로 사용됩니다. 이는 의약품 및 식품 생산 및 개발의 GMP 규제 영역에서 모든 ATEX 요구 사항을 갖춘 프로세스에서 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.
IPP 80-P는 레이저 조명 및 수신 광학의 하드웨어 기반, 따라서 연속적인 모니터링과 측정 소프트웨어에서의 자동 신호를 제공하여 언제나 안정적인 운영을 보장합니다. 이는 공정 내부에서 사용하기 전과 측정 작업 중 모두 적용됩니다.
측정 PC와 함께 사용하면, ATEX 지역 0/20 (가스/먼지)에서 직접적으로 입자 크기 분포 (예: Q0, Q3) 및 분포 속성 (x10, x50, x90 등)을 결정할 수 있습니다.
이 제품은 내구성이 뛰어나고, 사파이어 윈도우로 광학을 마모로부터 보호하며, 프로브 하우징도 스테인리스 스틸로 제작되어 있습니다. 치수, 측정 범위 및 액세서리가 다른 모든 프로브 모델과 호환되므로 ATEX 지역에서 IPP 80-P와 모든 공정 적응 액세서리를 함께 사용할 수 있습니다.
압축 공기 구동 액세서리 (분산기 등)는 측정 부피 및 측정 광학이 영구적으로 오염되지 않도록 보장하면서, 프로세스 및 입자 특성에 최적으로 적응되도록합니다. 따라서 프로브는 습기가 많고 끈적 끈적한 입자가 있는 공정에서도 사용할 수 있습니다. 분산기를 사용하면 유동화 침대와 같은 입자 이동이 불규칙한 공정이나 고체 프로세스와 같은 높은 입자 부하를 가진 공정에서도 측정이 가능합니다.
Technical details
더 큰 입자의 경우 최대 약 30 vol.%
옵션 : 4-20 mA, TCP/IP, OPC
II 1/2D Ex ia op is IIIC T125°C Da/Db
II (1)D [Ex ia Da] IIIC
Accessories